요약
[지디넷코리아]SK하이닉스가 차세대 D램 양산을 위한 극자외선(EUV) 기술 고도화에 집중하고 있다. 지난해 고개구율(High-NA) EUV 장비를 처음 도입해, 올해부터 관련 기술 연구개발에 본격 착수했다. EUV 성능을 높일 수 있는 '위상변위 마스크(PSM)' 등 신규 소재도 채용 중인 것으로 알려졌다. 박사로한 SK하이닉스 부사장은 10일 경기 수원 컨벤션센터에서 열린 '2026 차세대 리소그래피+패터닝 학술대회(NGL 2026)'에서 "EUV에서 극한…
본문
SK D (EUV) . (High-NA) EUV , . EUV ' (PSM)' . SK 10 '2026 + (NGL 2026)' "EUV PSM " . SK NGL 2026 . (=) (AI) · . D· . EUV. () , . EUV (ArF) 13 1 (13.5) . ArF ( ) , ( ) . . SK Hi…