요약
IT之家 7 月 29 日消息，御微半导体今日宣布，全新自研的国内首款可完整覆盖 90nm 至 28nm 制程节点的掩模图形缺陷检测设备 Raptor-600 正式发运国内头部晶圆厂。掩模版是芯片光刻环节的核心“母版”，它的品质直接左右整片晶圆的生产良率。细微的图形缺陷，都有可能造成整批晶圆全部报废。IT之家获悉，该设备可分辨精细图形、规避辅助图形干扰，快速检出图形缺损、表面污染物等各类问题，同时适配掩模制造厂、晶圆厂两大场景，满足全流程品质管控需求。官方表示，自 2025 年初，可完整覆盖 90nm 及以上的初…
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